产品列表PRODUCTS LIST

首页 > 技术与支持 > 日本日立荧光分布成像系统介绍
日本日立荧光分布成像系统介绍
点击次数:52 发布时间:2022-08-02

日本日立荧光分布成像系统概述

2019年10月23日,日立高新技术公司(TSE:8036,日立高新技术)正式推出荧光分布成像系统“EEM® View”,此系统由日立高新技术公司与日本的大学共同利用机关法人信息•系统研究机构 国立信息学研究所(所长:喜连川优,以下简称国立信息学研究所)共同研发而成。
EEM® View可直接安装到F-7100荧光分光光度计上,结合样品的光谱数据与CMOS*1相机装置拍摄的图像,可同时获得样品的荧光图像和反射图像,因此,对于需要高精度测定的材料、药物、食品等领域的研发与品质管理等十分重要。

图片:EEM® View
荧光分光光度计经过激发侧单色器将白色光分解成单色光,照射到样品上使样品发射出特有的荧光,再经发射侧单色器将荧光分解为单色光到达检测器,从而测定荧光物质的性质或浓度等。
近年来,LED照明、显示屏等中使用的荧光材料越来越精细,因此在电子材料和工业材料的性能与特性评价中,对荧光分光光度计的测定精度要求越来越高。
此次发布的荧光分布成像系统“EEM® View”是荧光分光光度计测定专用系统,通过采用积分球*2和CMOS相机装置,使用领*技术*3可同时获得分光图像和光谱数据。
照射的单色光经过积分球漫反射获得均匀的光源,照射样品,然后通过CMOS相机装置拍摄图像,再利用融合AI技术的计算系统*4,分别显示荧光成分和反射成分的图像。此外,这些样品图像可以分割成25个小区域,分别放大显示每个区域,并获得每个区域对应的荧光和反射光谱数据。在这之前,荧光分光光度计只能获得样品的平均光谱数据,使用EEM® View不仅可以清晰地看到样品的反射、荧光光谱,而且还可以通过图像确认样品产生荧光的位置,获得特定位置的光谱数据,实现了荧光物质更高精度的测定。
随着“EEM® View”在荧光分析中的应用,日立高新技术公司势必将会在以电子材料和工业材料为主的领域做出重要贡献,比如食品检验、生命科学、生物技术等的研发与品质管理。
日立高新技术集团以成为科学仪器界的领XIAN品牌为中期战略目标,全心致力于优秀产品的开发,为制造业做出更大的贡献。作为先进前沿的事业创新型企业,日立高新技术集团以成为提供高新技术和解决方案的*I流企业为目标,始终从客户立场出发,快速满足客户和市场需求。
* 1CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor):互补金属氧化物半导体
* 2积分球:内壁涂有高反射涂层的中空球
* 3日立高新技术公司调查结果(截止至2018年12月)
* 4计算系统是国立信息学研究所的佐藤IMARI教授和郑银强副教授共同研究的成果,用于荧光、反射图像的分离以及各区域荧光、反射光谱的计算。
* EEM:指激发发射矩阵,三维显示激发波长、发射波长、荧光强度,反映物质荧光特性的分析数据。也被称为三维荧光光谱、荧光指纹。
*  “EEM”是日立高新技术公司在日本的注册商标。

日本日立荧光分布成像系统特点

★ 可在不同光源条件下(白色光和单色光)获得图像
★ 可利用自主研发的计算系统,分别显示荧光图像和反射图像
★ 可获得不同区域(樶多25个区域)的光谱信息(荧光光谱、反射光谱)

 

分享到: 1
联系人
在线客服
用心服务 成就你我