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HORIBA真空紫外椭偏仪UVISEL 2 VUV介绍
点击次数:233 发布时间:2021-12-29

 

HORIBA真空紫外椭偏仪UVISEL 2 VUV概述

专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性;独YI无二的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。

重点应用领域

  • 超薄膜

  • 157nm 光刻新材料

  • 有机材料、高分子材料

  • 高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

  • 抗反射涂层

  • 半导体和介电材料电子跃迁

  • MgF2、CaF2、LaF3

HORIBA真空紫外椭偏仪UVISEL 2 VUV特点

★ 50KHz 高频PEM 相位调制技术

★ 45 秒内完成充氮气

★ 2 分钟内完成样品室抽真空

★ 8 分钟内完成光谱全谱范围内测量

★ 两种工作模式:氮气清洗结合抽

★ 真空、连续氮气清洗

★ 光谱范围:147nm~850nm;147nm~2100nm

 

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